| 发明名称 |
由有机胺基矽烷前驱物制造矽氧化物膜的方法 |
| 摘要 |
本发明涉及一种通过CVD在基材上沉积矽氧化物层的方法。其中烷基具有至少两个碳原子的有机胺基矽烷前驱物在氧化剂存在下的反应允许形成矽氧化物薄膜。所述的有机胺基矽烷类化合物由下式表示：二异丙基胺基矽烷的用途是形成矽氧化物薄膜的优选前驱物。 |
| 申请公布号 |
TW200743678 |
申请公布日期 |
2007.12.01 |
| 申请号 |
TW096117653 |
申请日期 |
2007.05.17 |
| 申请人 |
气体产品及化学品股份公司 |
发明人 |
赫瑞奇.史瑞丹达姆;萧满超;雷新建;汤玛斯.理查.加分尼 |
| 分类号 |
C23C16/40(2006.01);C23C16/52(2006.01);H01L21/31(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/40(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈展俊;林圣富 |
| 主权项 |
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| 地址 |
美国 |
