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发明名称 Reinigungsmittel für nach einer Trockenätzung und Verfahren zur Herstellung von einem Halbleitermaterial
摘要
申请公布号 DE602005000657(T2) 申请公布日期 2007.11.29
申请号 DE200560000657T 申请日期 2005.06.04
申请人 SONY CORP.;KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA;KANTO KAGAKU K.K. 发明人 MURAMATSU, MASAFUMI;ASADA, KAZUMI;HAGINO, YUKINO;OKUYAMA, ATSUSHI;NAKAJIMA, TAKAHITO;TAKASE, KAZUHIKO;UOZUMI, YOSHIHIRO;MATSUMURA, TSUYOSHI;OHWADA, TAKUO;ISHIKAWA, NORIO
分类号 C11D11/00;H01L21/3065;C11D3/02;C11D3/20;C11D3/24;C11D7/08;C11D7/10;C11D7/26;C11D7/32;C23G1/24;H01L21/02;H01L21/304;H01L21/3205;H01L21/336;H01L21/768;H01L23/52;H01L23/522;H01L29/78 主分类号 C11D11/00
代理机构 代理人
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