发明名称 Hybrides Belichtungssystem für die Photolithographie
摘要
申请公布号 DE69637282(D1) 申请公布日期 2007.11.22
申请号 DE19966037282 申请日期 1996.05.15
申请人 ASML HOLDING, N.V. 发明人 STANTON, STUART;OSKOTSKY, MARK;GALLATIN, GREGG;ZERNIKE, FRITZ
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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