发明名称 圆形光束边射型雷射
摘要 一种圆形光束边射型雷射,系以含稀微氮化物之低载子迁移率化合物半导体材料作为磊晶结构之发光层,由于低载子迁移率材料可大幅抑制载子的表面复合,于基板表面建立之磊晶结构,由下而上依序堆叠下包覆层、下光波导层、发光层、上光波导层、上包覆层及电极接触层,发光层系由稀微氮化物材料所形成,并且由磊晶结构表面蚀刻至穿过发光层,以形成发光层与空气介面具有高折射率差异的脊状波导。
申请公布号 TWI290402 申请公布日期 2007.11.21
申请号 TW092129664 申请日期 2003.10.24
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 王智祥;林国瑞;艾立斯.克夫许;利夫斯特
分类号 H01S5/30(2006.01) 主分类号 H01S5/30(2006.01)
代理机构 代理人
主权项 1.一种圆形光束边射型雷射,其包含: 一基板;及 一磊晶结构,形成于该基板之上表面并构成一脊状 波导,该磊晶结构系依序堆叠一下包覆层、一下光 波导层、一发光层、一上光波导层、一上包覆层 及一电极接触层所组成,发光层系由含有稀微氮化 物之一低载子迁移率材料所形成,该脊状波导系由 该磊晶结构表面蚀刻至穿过该发光层所形成。 2.如申请专利范围第1项所述之圆形光束边射型雷 射,其中该低载子迁移率材料系为InvGawAl1-v- wAsxPyNzSb1-x-y-z 材料,其中0 < v,w,x,y,z < 1。 3.如申请专利范围第1项所述之圆形光束边射型雷 射,其中该脊状波导之顶端表面系形成一上电极层 ,该基板之下表面则形成一下电极层,使电流局限 于通过该脊状波导包含之该发光层。 4.如申请专利范围第1项所述之圆形光束边射型雷 射,其中该上电极层系p型金属所形成,该下电极层 系n型金属所形成。 5.如申请专利范围第1项所述之圆形光束边射型雷 射,其中该脊状波导系藉由光微影和蚀刻方式形成 。 图式简单说明: 第1图为本发明实施例之磊晶结构示意图; 第2图为本发明实施例之磊晶结构蚀刻示意图; 第3图为本发明实施例之结合电极示意图;
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号