发明名称 具延长引脚之薄膜覆晶封装构造
摘要 一种具延长引脚之薄膜覆晶封装构造,主要包含有一电路薄膜、一凸块化晶片以及一点涂胶体,该电路薄膜系定义有一对应于该晶片且概呈矩形之覆晶接合区并具有一软性介电层、复数个长侧引脚及复数个短侧引脚,该些长侧引脚与短侧引脚之复数个内接合部系分别排列于该覆晶接合区之两较长侧与两较短侧,其中在该些长侧引脚中系包含复数个延长引脚,该些延长引脚之内接合部系较长于相邻长侧引脚之内接合部且往该覆晶接合区之延伸,以防止在接合该晶片之凸块时该软质介电层之塌陷。因此,该点涂胶体能顺利充填在该电路薄膜与该晶片之间,不会发生气泡。
申请公布号 TWI290362 申请公布日期 2007.11.21
申请号 TW095111123 申请日期 2006.03.30
申请人 南茂科技股份有限公司;百慕达南茂科技股份有限公司 CHIPMOS TECHNOLOGIES (BERMUDA) LTD. 百慕达 发明人 杨郁廷
分类号 H01L23/495(2006.01);H01L23/28(2006.01) 主分类号 H01L23/495(2006.01)
代理机构 代理人 许庆祥 高雄市苓雅区新光路24巷31号
主权项 1.一种薄膜覆晶封装构造,包含: 一电路薄膜,其系具有一软质介电层、复数个长侧 引脚以及复数个短侧引脚; 一晶片,其系具有复数个凸块,其系接合至该些长 侧引脚与该些短侧引脚;以及 一点涂胶体,其系形成于该电路薄膜与该晶片之间 ; 其中,该电路薄膜系定义有一对应于该晶片且概呈 矩形之覆晶接合区,该些长侧引脚之复数个内接合 部系排列于该覆晶接合区之两较长侧,该些短侧引 脚之复数个内接合部系排列于该覆晶接合区之两 较短侧,其中在该些长侧引脚中系包含复数个延长 引脚,该些延长引脚之延长部系较长于相邻长侧引 脚之内接合部且往该覆晶接合区之中央延伸,以防 止在接合该些凸块至该些长侧引脚与该些短侧引 脚时该软质介电层之塌陷,以利该点涂胶体之充填 。 2.如申请专利范围第1项所述之薄膜覆晶封装构造, 其中该些延长引脚之延长部之长度系大于未延长 之该些长侧引脚之内接合部之平均长度,且不大于 该覆晶接合区之一半宽度。 3.如申请专利范围第1项所述之薄膜覆晶封装构造, 另包含有一防焊层,其系形成于该软质介电层上并 局部覆盖该些长侧引脚与该些短侧引脚,并且该防 焊层系具有一开孔,其系显露该些长侧引脚之该些 内接合部、该些短侧引脚之该些内接合部及该些 延长引脚之该些内接合部。 4.如申请专利范围第1或3项所述之薄膜覆晶封装构 造,其中该点涂胶体系密封该些凸块、该些长侧引 脚之该些内接合部、该些短侧引脚之该些内接合 部及该些延长引脚之该些内接合部。 5.如申请专利范围第1项所述之薄膜覆晶封装构造, 其中该点涂胶体系为一底部填充胶。 6.如申请专利范围第1项所述之薄膜覆晶封装构造, 其中在该覆晶接合区之不同较长侧之该些延长引 脚系为交错排列。 7.如申请专利范围第1项所述之薄膜覆晶封装构造, 其中该些延长引脚之该些内接合部系随着往该覆 晶接合区之中央而渐长。 8.一种薄膜覆晶封装构造,包含: 一电路薄膜,其系具有一软质介电层以及复数个引 脚; 一晶片,其系具有复数个凸块,其系接合至该些引 脚之复数个内接合部;以及 一点涂胶体,其系形成于该电路薄膜与该晶片之间 ; 其中,该电路薄膜系定义有一对应于该晶片且概呈 矩形之覆晶接合区,该些引脚之该些内接合部系排 列于该覆晶接合区之周边,其中在该些引脚中系包 含至少一延长引脚,该延长引脚之延长部系较长于 相邻引脚之内接合部且往该覆晶接合区之中央延 伸,以防止在接合该些引脚与该些凸块时该软质介 电层之塌陷,以利该点涂胶体之充填。 9.如申请专利范围第8项所述之薄膜覆晶封装构造, 其中该些延长引脚之延长部之长度系大于未延长 之该些引脚之内接合部之平均长度,且不大于该覆 晶接合区之一半宽度。 10.如申请专利范围第8项所述之薄膜覆晶封装构造 ,另包含有一防焊层,其系形成于该软质介电层上 并局部覆盖该些引脚,并且该防焊层系具有一开孔 ,其系显露该些引脚与该延长引脚之该些内接合部 。 11.如申请专利范围第8项所述之薄膜覆晶封装构造 ,其中该点涂胶体系为一底部填充胶。 12.如申请专利范围第8项所述之薄膜覆晶封装构造 ,其中该点涂胶体系密封该延长引脚之该内接合部 。 图式简单说明: 第1图:习知薄膜覆晶封装构造之截面示意图。 第2图:习知薄膜覆晶封装构造之底面透视图。 第3图:习知薄膜覆晶封装构造于晶片接合时之截 面示意图。 第4图:依据本发明之第一较佳实施例,一种薄膜覆 晶封装构造之截面示意图。 第5图:依据本发明之第一较佳实施例,该薄膜覆晶 封装构造之底面透视图。 第6图:依据本发明之第一较佳实施例,该薄膜覆晶 封装构造于晶片接合时之截面示意图。 第7图:依据本发明之第二较佳实施例,另一薄膜覆 晶封装构造之底面透视图。
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