发明名称 |
用于增强确定衬底上的结构的坐标时的测量精确度的方法 |
摘要 |
一种用于以高精确度测量衬底上的至少一个结构的坐标的方法。提供可在X/Y坐标方向上横穿的平台,所述平台放置在干涉式光学测量系统中。所述衬底上的结构经由测量物镜(21)成像于至少一个检测器(34)上,所述测量物镜(21)的光轴(20)在Z坐标方向上对准。利用所谓的双扫描使所述结构成像。因此可消除系统误差。 |
申请公布号 |
CN101074866A |
申请公布日期 |
2007.11.21 |
申请号 |
CN200710101797.4 |
申请日期 |
2007.05.15 |
申请人 |
比斯泰克半导体系统股份有限公司 |
发明人 |
伯塞尔·汉斯·阿图尔;沙夫·安地列斯 |
分类号 |
G01B9/02(2006.01);G01B11/30(2006.01) |
主分类号 |
G01B9/02(2006.01) |
代理机构 |
北京中原华和知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
寿宁;张华辉 |
主权项 |
1.一种用于以高精确度测量衬底上至少一个结构的坐标的方法,所述衬底放置在平台上,所述平台可在干涉式光学测量系统中在X/Y坐标方向上移动,且其中所述衬底上的所述结构经由测量物镜而成像到至少一个检测器上,所述测量物镜的光轴在Z坐标方向上对准,所述方法的特征在于以下步骤:以所述衬底上的结构定位在所述检测器的至少一个预定的测量窗口中的方式使所述可在所述X/Y坐标方向上移动的平台横穿;执行在所述Z坐标方向上的相对移动至少一次,其中与在所述Z坐标方向上的所述相对移动同步,由所述检测器记录所述结构的多个图像,且还与所述成像同步来确定所述平台在所述X和Y坐标方向上的位置;使所述平台在由所述X和Y坐标方向界定的平面中横穿一距离至少一次,且也使所述测量窗口偏移此距离;执行在与所述Z坐标方向相反的方向上的相对移动至少一次,其中与在所述Z坐标方向上的所述相对移动同步,由所述检测器记录所述结构的多个图像,且还与所述成像同步来确定所述平台在所述X和Y坐标方向上的位置;以及在所述Z坐标方向上和所述相反方向上的所述相对移动期间,根据与所述结构的所述记录的图像同步而记录的Z位置,并根据针对每个图像所确定的所述平台的位置,来确定所述结构的至少一个实际位置。 |
地址 |
德国玮堡35781库巴查尔维格4号 |