半导体设备及其清洁单元

摘要

一种半导体设备，用以处理一晶圆，包括一平台、一流体供应单元以及一清洁单元。平台支撑该晶圆。流体供应单元提供一第一流体，其中，该流体供应单元可以于一第一位置以及一第二位置之间移动。清洁单元提供一第二流体。其中，当该流体供应单元位于该第一位置时，该流体供应单元朝该晶圆提供该第一流体，当该流体供应单元位于该第二位置时，该清洁单元朝该流体供应单元的表面吹送该第二流体，以清洁该流体供应单元的表面。