发明名称 低压电容器铝阳极箔之多段腐蚀制程
摘要 低压铝电解电容器主要构成的材料部份为阳极箔、阴极箔及电解液。阳极箔的制造方式是将高纯度铝箔(99.99%)放入氯离子溶液中,以电化学方式腐蚀铝箔,使表面产生有效面积及增加静电容量。最后,经低压化成处理,使铝箔表面产生一层耐电压氧化膜。阳极箔静电容量的高低,主要取决于表面有效面积,尤其是又经过化成处理后而产生一层氧化膜,势必会减少表面有效面积及降低静电容量。所以,为了降低产品的材料成本及提高利润,阳极箔表面有效面积愈高愈好,愈有利提高化成后的静电容量。本发明系采用多段腐蚀方式,交互使用电化学及化学方式腐蚀铝箔,在盐酸及硫酸、铝离子溶液中,使铝箔表面发孔、扩孔再衍生蚀孔,并让铝箔表面产生均匀及致密性的蚀孔形貌。最后,经低压18.4V化成处理后,静电容量仍有60μF/cm2以上。
申请公布号 TW200742774 申请公布日期 2007.11.16
申请号 TW095115972 申请日期 2006.05.05
申请人 李春颖;林招松 CHAO-SUNG LIN 台北市大安区罗斯福路4段1号 发明人 林宥志;李春颖;林招松
分类号 C25F3/04(2006.01) 主分类号 C25F3/04(2006.01)
代理机构 代理人
主权项
地址 彰化县彰化市埔市街97号