角锥微结构阵列制法

摘要

本发明系有关一种角锥微结构阵列制法，其包括一预备步骤及二微影成型步骤；本发明藉由微影曝光中，配合近接式曝光法以凹透镜改变黄光入射光罩之透光孔的方向，使光阻层得以曝光呈现角锥型阵列结构之光阻；并透过制程参数之设定以及该光罩之透光孔的形状，可稳定控制该角锥微结构之尺寸大小，进一步加以电铸成形为微模仁，可进行量产射出制造；如此兼具可制造不同尺寸之角锥微结构阵列、制程稳定、生产设备成本低，以及导光性特佳等功效。