发明名称 PHOTOMASK HAVING HALF-TONE PHASE SHIFT PORTION
摘要 A photomask has a half-tone phase shift portion in a reticle alignment mark portion instead of a light transmissive portion so as to reduce an exposure light transmittance and reduce an influence from ghost.
申请公布号 US2007264585(A1) 申请公布日期 2007.11.15
申请号 US20070747316 申请日期 2007.05.11
申请人 ELPIDA MEMORY, INC. 发明人 YOSHINO HIROSHI
分类号 G03F1/32;G03F1/42;G03F1/68;G03F9/00;H01L21/027 主分类号 G03F1/32
代理机构 代理人
主权项
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