| 发明名称 |
VERFAHREN ZUR BENUTZUNG VON WASSERSTOFF- UND SAUERSTOFFGAS IN SPUTTERABSCHEIDUNG VON ALUMINIUMHALTIGEN FILMEN UND DANACH HERGESTELLTE ALUMINIUMHALTIGE FILME |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
DE69837203(T2) |
申请公布日期 |
2007.11.15 |
| 申请号 |
DE19986037203T |
申请日期 |
1998.07.15 |
| 申请人 |
MICRON TECHNOLOGY INC. |
发明人 |
RAINA, KANWAL K.;WELLS, DAVID H. |
| 分类号 |
C23C2/00;H01L21/203;C23C14/00;C23C14/14;C23C14/18;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/3205;H01L29/45;H01L29/49 |
主分类号 |
C23C2/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
