| 发明名称 | 激光掩模以及利用其结晶的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种激光掩模和利用其结晶的方法，能够产生具有均匀的结晶特性的多晶硅薄膜。按照本发明，一种利用激光掩模结晶的方法，所述激光掩模具有第一区段中的参考图案和第二区段中的所述参考图案的相反图案，该方法包括：提供具有硅薄膜的基板；将激光掩模的第一区段设置在一部分硅薄膜上，然后通过该第一区段照射第一激光束，其中所述参考图案包括多个第一透射区域和一个第一阻挡区域，所述相反图案包括多个第二阻挡区域和一个第二透射区域；移动激光掩模或者基板，从而将激光掩模的第二区段设置在所述部分硅薄膜上，然后通过第二区段照射第二激光束。 | ||
| 申请公布号 | CN100349260C | 申请公布日期 | 2007.11.14 |
| 申请号 | CN200410101579.7 | 申请日期 | 2004.12.23 |
| 申请人 | LG.菲利浦LCD株式会社 | 发明人 | 俞载成 |
| 分类号 | H01L21/20(2006.01);H01L21/30(2006.01) | 主分类号 | H01L21/20(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐金国;祁建国 |
| 主权项 | 1、一种具有第一区段和第二区段的激光掩模，包括：在第一区段中的参考图案；以及在第二区段中的所述参考图案的相反图案，其中所述参考图案包括多个第一透射区域和一个第一阻挡区域，所述相反图案包括多个第二阻挡区域和一个第二透射区域，以及所述第一透射区域和第二阻挡区域的形状相同，所述第一阻挡区域和第二透射区域的形状相同。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||