高效能臭氧水清洗半导体晶圆的系统及其方法

摘要

本发明是有关一种高效能臭氧水清洗半导体晶圆的系统及其方法，该方法主要利用超纯水与气相臭氧，在具有重力场的一机构环境中的气、液溶解结合制程、清洗溶液浓度动态分析制程与资料馈控技术，包含高浓度大流量液相臭氧水的制作为清洗溶液、晶圆清洗同时对溶液中臭氧、添加剂浓度与水温的动态监测，和监测值分析馈送并反应进行调整控制运作，而在维持有效晶圆表面清洗能力下，进行连续式快速的大量晶圆清洗。该系统包含一液相臭氧生成机构、一储槽或清洗槽、一添加剂供应机构、一监控机构及一自动馈控机构。

主权项

1.一种高效能臭氧水清洗半导体晶圆的系统，是用以配合半导晶圆进行连续式大量清洗的系统，该系统架构包含：一液相臭氧生成机构，该液相臭氧生成机构具有产生一高速旋转下产生的离心式重力场环境，形成一可将超纯水切碎成小液滴或雾状条件，进而与逆向传送的气相臭氧，进行完全的溶解、搅拌混合，并快速地溶解气相臭氧的一质传机制，从而获得高浓度液相臭氧水溶液；一清洗槽，管路连结前述液相臭氧生成机构取得清洗溶液与储置，并提供晶圆浸入清洗的空间；一添加剂供应机构，连结前述清洗槽，受控进行添加剂的添加；一监控机构，布设于前述清洗槽中，在清洗过程中即时侦测清洗溶液各种应用参数，并回馈该资料于一自动馈控机构；一自动馈控机构，输入并记忆溶液应用参数设定值；并接受前述监控机构侦测回馈的各种参数资料，即时的进行收集与分析、比对设定标准值，同时对于比对结果作出迅速的反应机制，进而迅速调整各项操作参数，以维持溶液具有最佳氧化分解能力，保持最有效对晶圆表面的有机物(如光阻)或其它氧化层的移除，更可以用以大量且连续式的清洗晶圆。