| 发明名称 | 一种用于沉积涂层材料膜,尤其是超导氧化物膜的方法和设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种在衬底上沉积涂层材料膜的制备方法及其设备，尤其用于沉积超导氧化物薄膜和/或缓冲层来制备超导复合带。在衬底(4)上沉积膜(2)的步骤涉及到原位气相处理步骤，在该步骤中将气流(13)传送到衬底的加工表面(14)或衬底上生长膜的加工表面上。该气相处理步骤是通过超声膨胀喷嘴(26)实施的。 | ||
| 申请公布号 | CN101072893A | 申请公布日期 | 2007.11.14 |
| 申请号 | CN200480026384.9 | 申请日期 | 2004.09.10 |
| 申请人 | 艾迪森股份公司 | 发明人 | 埃尔波特·巴尔迪尼;安芮·告兹;斯欧·哉那拉 |
| 分类号 | C23C14/22(2006.01);C23C14/56(2006.01) | 主分类号 | C23C14/22(2006.01) |
| 代理机构 | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人 | 郑小粤;胡杰 |
| 主权项 | 1.一种在衬底上沉积涂层材料膜的方法，特别是用于超导复合带的超导氧化物膜和/或缓冲层膜的沉积，包含在衬底(4)上沉积膜(2)的步骤，该步骤与气相原位处理步骤相关联，在气相原位处理步骤中，将气流(13)输送到衬底(4)的加工表面(14)或在衬底上生长的膜(2)的加工表面，所述方法的特征在于所述的气相处理步骤包括使被输送的气流(13)超声膨胀的步骤。 | ||
| 地址 | 意大利米兰 | ||