发明名称 Cleaning Composition, Method for Cleaning Semiconductor Substrate, and Process for Manufacturing Semiconductor Device
摘要
申请公布号 KR100775199(B1) 申请公布日期 2007.11.12
申请号 KR20050011102 申请日期 2005.02.07
申请人 发明人
分类号 H01L21/306;B08B1/04;B08B3/08;C11D3/37;C11D11/00;H01L21/02;H01L21/3105;H01L21/321 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
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