| 主权项 |
1.一种光电装置,其特征为:具备一对基板;挟持于 此一对基板中之光电元件;收纳挟持前述光电元件 之前述一对基板之保持框;和设于前述一对基板之 至少任一方的外侧表面及前述保持框之外侧表面 的带电防止层, 上述带电防止层系由无机质材料所形成,厚度为100 ~200nm。 2.如申请专利范围第1项之光电装置,其中,上述带 电防止层系具有二氧化矽和导电性微粒子而所形 成。 3.如申请专利范围第2项之光电装置,其中,上述带 电防止层电阻値为106~109/。 4.一种投影机,其特征为:具有申请专利范围第1项 至第3项中之任一项所记载之光电装置。 5.一种投影机,系属于具有光源、将自该光源射出 之光束分离为多数色的色分离光学系、将以该色 分离光学系而分离之各色光各自施予调制的多数 光电装置、将依据该些光电装置而被调制之各色 光予以合成的棱镜、和投射自上述棱镜被射出之 光的投影透镜之投影机,其特征为: 上述多数之光电装置,系如申请专利范围第1项至 第3项中之任一项所记载之光电装置。 6.如申请专利范围第5项所记载之投影机,其中,具 有合成树脂制零件,于该合成树脂制零件施有带电 防止处理。 7.如申请专利范围第4项所记载之投影机,其中,具 有光源、由自该光源被射出之光而形成光学像之 光电装置、投影自该光电装置被射出之光的投影 透镜、和配置于上述光电装置之上述光源侧的场 透镜之投影机,且, 上述场透镜之至少一方的表面上设置有带电防止 层,或是施有带电防止处理。 8.如申请专利范围第4项所记载之投影机,其中,具 有光源、由自该光源被射出之光而形成光学像之 光电装置、投影自该光电装置被射出之光的投影 透镜、和配置于上述光电装置之上述光源侧的入 射侧偏光板之投影机,且, 上述入射侧偏光板之至少一方的表面上,设置有带 电防止层,或是施有带电防止处理。 9.如申请专利范围第4项所记载之投影机,其中,具 有光源、由自该光源被射出之光而形成光学像之 光电装置、投影自该光电装置被射出之光的投影 透镜、和配置于上述光电装置之上述光源侧的入 射侧偏光板之投影机,且, 上述入射侧偏光板系贴合于光透过性基板上,上述 光透过性基板之至少一方的表面上,设置有带电防 止层,或是施有带电防止处理。 10.如申请专利范围第4项所记载之投影机,其中,具 有光源、由自该光源被射出之光而形成光学像之 光电装置、投影自该光电装置被射出之光的投影 透镜、和配置于上述光电装置之上述投影侧的出 射侧偏光板之投影机,且, 上述出射侧偏光板之至少一方的表面上,设置有带 电防止层,或是施有带电防止处理。 11.如申请专利范围第4项所记载之投影机,其中,具 有光源、由自该光源被射出之光而形成光学像之 光电装置、投影自该光电装置被射出之光的投影 透镜、和配置于上述光电装置之上述投影透镜侧 的出射侧偏光板之投影机,且, 上述出射侧偏光板系贴合于光透过性基板上,上述 光透过性基板之至少一方的表面上,设置有带电防 止层,或是施有带电防止处理。 12.如申请专利范围第4项所记载之投影机,其中,具 有光源、由自该光源被射出之光而形成光学像之 光电装置、投影自该光电装置被射出之光的投影 透镜、和配置于上述光电装置之上述光源侧及上 述投影透镜侧之至少一方的位相差板之投影机,且 , 上述位相差板之至少一方的表面上,设置有带电防 止层,或是施有带电防止处理。 13.如申请专利范围第4项所记载之投影机,其中,具 有光源、由自该光源被射出之光而形成光学像之 光电装置、投影自该光电装置被射出之光的投影 透镜、和配置于上述光电装置之上述光源侧及上 述投影透镜侧至少一方的位相差板之投影机,且, 上述位相差板系贴合于光透过性基板上,上述光透 过性基板之至少一方的表面上,设置有带电防止层 ,或是施有带电防止处理。 14.如申请专利范围第4项所记载之投影机,其中,具 有光源、由自该光源被射出之光而形成光学像之 光电装置、投影自该光电装置被射出之光的投影 透镜、和配置于上述光电装置之上述光源侧及上 述投影透镜侧之至少一方的视角补偿膜之投影机, 且, 上述视角补偿膜之至少一方的表面上,设置有带电 防止层,或是施有带电防止处理。 15.如申请专利范围第4项所记载之投影机,其中,具 有光源、由自该光源被射出之光而形成光学像之 光电装置、投影自该光电装置被射出之光的投影 透镜、和配置于上述光电装置之上述光源侧及上 述投影透镜侧之至少一方的视角补偿膜之投影机, 且, 上述视角补偿膜系贴合于光透过性基板上,上述光 透过性基板之至少一方的表面上,设置有带电防止 层,或是施有带电防止处理。 16.如申请专利范围第4项所记载之投影机,其中,具 有将多数色光各自予以调制的多数光电装置、将 依据该些光电装置而被调制之各色光予以合成的 棱镜、和投射自上述棱镜被射出之光的投影透镜 之投影机,且, 于上述棱镜之光入射端面上,设置有带电防止层, 或是施有带电防止处理。 17.如申请专利范围第1项所记载之光电装置,其中, 前述保持框为合成树脂制。 图式简单说明: 第1图为表示有关本发明实施形态之投影机构造的 模式图。 第2图为表示上述实施形态中之光学单元之构造的 外观斜视图。 第3图为表示上述实施形态中之光学单元之构造的 分解斜视图。 第4图为表示上述实施形态之要部的剖面图。 第5图为表示形成带电防止层之步骤的流程图。 |
