| 主权项 |
1.一种于电浆处理基材期间使电浆制程系统之处 理室绝缘阀接地的方法,其中处理室绝缘阀包括一 阀门、一支撑件或其两者以及一真空密封件,其至 少包含: 将处理室绝缘阀移至关闭位置;以及 利用至少一导电件于处理室绝缘阀及电浆制程系 统之至少一电性接地元件之间形成电性接触。 2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该至少一 导电件系一导电弹性件,且该弹性件之体积电阻在 热老化后不超过约0.200 ohm-cm。 3.如申请专利范围第2项所述之方法,其中该至少一 弹性件系稳固接附于该处理室绝缘阀门,并与之电 性连通。 4.如申请专利范围第2项所述之方法,其中该至少一 弹性件系稳固接附于该处理室绝缘阀支撑件( bracing member),并与之电性连通。 5.如申请专利范围第2项所述之方法,其中该至少一 导电弹性件系一弹性突出部,其中该弹性突出部系 自O型条、D型条或P型条所组成之群组中选出。 6.如申请专利范围第2项所述之方法,其中该至少一 导电弹性件系沿该处理室绝缘阀之真空密封件外 周围安设。 7.如申请专利范围第2项所述之方法,其中该至少一 导电弹性件系沿该处理室绝缘阀之一支撑件接触 部分的周围安设。 8.如申请专利范围第2项所述之方法,其中该至少一 导电弹性件系沿该处理室绝缘阀之该真空密封件 的下方外周围安设。 9.如申请专利范围第2项所述之方法,其中该至少一 导电弹性件系沿该处理室绝缘阀之该支撑件接触 部分的下方周围安设。 10.如申请专利范围第4项所述之方法,其中该至少 一导电弹性件至少包含该处理室绝缘阀支撑件的 一或多个反应缓冲器。 11.如申请专利范围第2项所述之方法,其中系藉由 一导电弹性件而于处理室绝缘阀及该电浆制程系 统之至少一电性接地元件之间形成之电性接触,其 中该导电弹性件包括: 移动该处理室绝缘阀之至少一导电表面以与该电 浆制程系统之接地元件电性接触,其中该接地元件 包括一导电性弹性件。 12.如申请专利范围第11项所述之方法,其中该至少 一导电性表面系该处理室绝缘阀门之一部分。 13.如申请专利范围第11项所述之方法,其中该至少 一导电性表面包含该处理室绝缘阀之支撑件的一 导电部分。 14.如申请专利范围第13项所述之方法,其中该支撑 件之部分系反应缓冲器。 15.如申请专利范围第11项所述之方法,其中该电浆 制程系统之接地元件系一阀门外罩前板。 16.如申请专利范围第11项所述之方法,其中该电浆 制程系统之接地元件系一处理室开口密封表面。 17.一种于电浆处理基材期间使电浆制程系统之处 理室绝缘阀接地的方法,其中处理室绝缘阀包括一 阀门、一支撑件或其两者以及一真空密封件,其至 少包含: 将该处理室绝缘阀移至关闭位置;以及 将该电浆制程系统之至少一电性接地元件与至少 一导电弹性件接触,该弹性件(群)系稳固接附于该 处理室绝缘阀并与之电性连通。 18.如申请专利范围第17项所述之方法,其中该至少 一弹性件在热老化后的体积电阻不超过约0.200 ohm- cm。 19.如申请专利范围第17项所述之方法,其中该至少 一导电弹性件系一弹性突出物,其中该弹性突出物 系由O型条、D型条或P型条所组成之群组中选出。 20.如申请专利范围第17项所述之方法,其中稳固接 附包含沿该处理室绝缘阀之真空密封件的外周围 安设。 21.如申请专利范围第17项所述之方法,其中稳固接 附包含沿该处理室绝缘阀支撑件之该接触部分的 周围安设。 22.如申请专利范围第17项所述之方法,其中稳固接 附包含沿该处理室绝缘阀之真空密封件的下方外 周围安设。 23.如申请专利范围第17项所述之方法,其中稳固接 附包含沿该处理室绝缘阀支撑件之该接触部分的 下周围安设。 24.如申请专利范围第17项所述之方法,其中该至少 一导电弹性件包含处理室绝缘阀支撑件的一或多 个反应缓冲器。 25.一种于电浆处理基材期间使电浆制程系统之处 理室绝缘阀接地的方法,其中处理室绝缘阀包括一 阀门、一支撑件或其两者,其至少包含: 将该处理室绝缘阀移至关闭位置;以及 移动该电浆制程系统之至少一导电表面以与该电 浆制程系统之至少一接地元件电性接触,其中该至 少一接地元件包括一导电弹性件。 26.如申请专利范围第25项所述之方法,其中导电弹 性件包括热老化后体积电阻率不大于约0.200 ohm-cm 的弹性件。 27.如申请专利范围第25项所述之方法,其中导电弹 性件系一弹性突出部,其中该弹性突出部系由O型 条、D型条或P型条所组成之群组中选出。 28.如申请专利范围第25项所述之方法,其中该至少 一导电表面系该处理室绝缘阀门的一部份。 29.如申请专利范围第25项所述之方法,其中该至少 一导电表面包括处理室绝缘阀支撑件之一导电部 分。 30.如申请专利范围第29项所述之方法,其中该支撑 件的部分系反应缓冲器。 31.如申请专利范围第25项所述之方法,其中该电浆 制程系统之至少一接地元件系一阀门外罩前板。 32.如申请专利范围第25项所述之方法,其中该电浆 制程系统之至少一接地元件系一处理室开口密封 表面。 33.一种用于电浆制程系统之接地处理室绝缘阀,其 至少包含: 一阀门;以及 至少一导电件,在该阀门位于关闭位置时用于与该 电浆制程系统之至少一接地元件接触的阀门电性 连通。 34.如申请专利范围第33项所述之处理室绝缘阀,其 中该至少一导电件系一导电弹性件,且该导电弹性 件在热老化后体积电阻率不大于约0.200 ohm-cm。 35.如申请专利范围第34项所述之处理室绝缘阀,其 中该至少一导电弹性件系一弹性突出部,其中该弹 性突出部系由O型条、D型条或P型条所组成之群组 中选出。 36.如申请专利范围第34项所述之处理室绝缘阀,其 中该至少一导电弹性件在该处理室绝缘阀位于关 闭位置时系安装在该处理室开口之下或旁侧。 37.如申请专利范围第34项所述之处理室绝缘阀,其 中该处理室绝缘阀更包括一支撑件,而该至少一导 电弹性件包括支撑件之一或多个反应缓冲器。 38.如申请专利范围第34项所述之处理室绝缘阀,其 中该至少一弹性导电件包括该阀门之一密封件。 39.一种用于电浆制程系统之接地处理室绝缘阀,其 至少包含: 一阀门; 一支撑件;以及 至少一导电弹性件,在该阀门位于关闭位置时用于 与该电浆制程系统之至少一接地元件接触的支撑 件电性连通。 40.一种用于电浆制程系统之接地处理室绝缘阀,其 至少包含: 一阀门;以及 至少一导电表面,在该阀门位于关闭位置时用于与 该电浆制程系统之至少一接地元件接触的阀门电 性连通,其中该至少一接地元件包括一导电弹性件 。 41.如申请专利范围第40项所述之处理室绝缘阀,其 中导电弹性件至少包含热老化后体积电阻率不超 过约0.200 ohm-cm之弹性件。 42.如申请专利范围第40项所述之处理室绝缘阀,其 中该导电弹性件系一弹性突出部,其中该弹性突出 部系由O型条、D型条或P型条所组成之群组中选出 。 43.如申请专利范围第40项所述之处理室绝缘阀,其 中该至少一导电表面在该处理室绝缘阀位于关闭 位置时系安装在处理室开口之下或旁侧。 44.如申请专利范围第40项所述之处理室绝缘阀,其 中该处理室绝缘阀更包含一支撑件,且该至少一导 电表面包括该支撑件之一导电部分。 45.如申请专利范围第44项所述之处理室绝缘阀,其 中该支撑件之部分系反应缓冲器。 46.如申请专利范围第40项所述之处理室绝缘阀,其 中该电浆制程系统之至少一接地元件系一阀门外 罩前板。 47.如申请专利范围第40项所述之处理室绝缘阀,其 中该电浆制程系统之至少一接地元件系一处理室 开口密封表面。 48.如申请专利范围第40项所述之处理室绝缘阀,其 中该电浆制程系统之至少一接地元件系一处理室 开口密封表面。 图式简单说明: 第1图系一可受益于本发明之例示性基材制程系统 的概要平面图。 第2图系一可密封制程处理室开口之处理室绝缘阀 门的侧面概要图。 第3A、3B及3C图分别为O型条、D型条及P型条部分。 第4A-4C图系一可受益于本发明之处理室绝缘阀的 垂直截面图。 第5图系具有支撑件之一例示性处理室绝缘阀处于 第4图概要侧示之相同位置时的垂直截面图。 第6图系先前第5图所示具有支撑件之处理室绝缘 阀的部分垂直截面图。 第6A图系具有支撑件之处理室绝缘阀的部分垂直 截面图。 第7图系具有支撑件之处理室绝缘阀的另一部份垂 直截面图。 第8图系处理室绝缘阀之部分垂直截面图。 第9图系处理室绝缘阀之部分垂直截面图。 |
