发明名称 镜子及具有镜子之微影装置
摘要 本发明系关于一种具有一镜射表面(mirroring surface)的镜子,其中该镜射表面包括一或多个包括一选自于Be、B、 C、P、S、K、Ca、Sc、Br、Rb、Sr、Y、Zr、Nb、Mo、 Ba、La、Ce、Pr、Pa及U中至少一者的材料之突起,或者在该镜射表面之内包括一或多个包括一选自于Be、B、C、 P、S、K、Ca、Sc、Br、Rb、Sr、Y、Zr、Nb、Mo、Ba、 La、Ce、Pr、Pa及U中至少一者的第一材料之第一突起及一或多个包括一选自于Be、B、C、Si、P、S、K、Ca、Sc、 Br、Rb、Sr、Y、Zr、Nb、Mo、Ba、La、Ce、Pr、Pa及U中至少一者的第二材料之第二突起,且其中该第一及第二材料不相同。本发明进一步关于一种包括该等镜子之微影投影装置。本发明亦关于一种使用该种微影装置之元件制造方法。
申请公布号 TWI289735 申请公布日期 2007.11.11
申请号 TW093120508 申请日期 2004.07.08
申请人 ASML公司 发明人 李唯纳斯 派特 贝克
分类号 G03F7/20(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种镜子,其具有一镜射表面,其中该镜射表面包 括一或多个包括一第一材料的第一突起,且包括一 或多个包括一第二材料的第二突起,且其中该第一 及第二材料不相同。 2.如请求项1之镜子,其具有至少一镜射表面,其中 该镜射表面包括一或多个包括一选自于Be、B、C、 P、S、K、Ca、Sc、Br、Rb、Sr、Y、Zr、Nb、Mo、Ba、La 、Ce、Pr、Pa及U中至少一者的第一材料之第一突起 及一或多个包括一选自于Be、B、C、Si、P、S、K、 Ca、Sc、Br、Rb、Sr、Y、Zr、Nb、Mo、Ba、La、Ce、Pr、 Pa及U中至少一者的第二材料之第二突起,且其中该 第一及第二材料不相同。 3.如请求项1或2之镜子,其中该等第一突起及第二 突起系以此方式加以配置,使得可针对EUV辐射创造 一不会在该镜射表面上改变的光径长度差。 4.如请求项1或2之镜子,其中该镜子系一掠入射镜 子或一多层镜子。 5.如请求项1或2之镜子,其中该等突起系以此方式 加以配置,以使得当一辐射射束入射于该镜子上时 ,该辐射射束之所要波长以一预定方向通过且不当 波长得以偏转于其它方向中及/或被吸收。 6.如请求项1或2之镜子,其中该等突起经配置以形 成一闪耀光栅。 7.一种微影投影装置,包括: -一辐射系统,其用于供给一辐射投影射束; -一支撑结构,其用于支撑图案化构件,该图案化构 件用以根据一所要图案来图案化该投影射束; -一基板台,其用于固持一基板; -一投影系统,其用于将该经图案化射束投影至该 基板的一目标部分上;及 -一或多个镜子,每一镜子具有一镜射表面, 其特征为:该等镜子中至少一者包括一如请求项1 至6项中任一项之镜子。 8.如请求项7之微影装置,包括一具有一包括第一及 第二突起之镜射表面的镜子,其中该等第一突起及 第二突起系以此方式加以配置,以使得可针对EUV辐 射创造一不会在该镜射表面上改变的光径长度差 。 9.如请求项7或8之微影装置,其中镜子中一或多个 系配置成靠近该辐射系统。 10.一种元件制造方法,包括: -提供一至少部分地由一辐射敏感材料层所覆盖的 基板; -使用一辐射系统提供一辐射投影射束; -使用图案化构件在该投影射束之横截面中赋予其 一图案; -将该经图案化辐射射束投影至该辐射敏感材料层 之一目标部分上;及 -提供具有一镜射表面的一或多个镜子, 其特征为:在该投影射束(PB)之路径中提供至少一 如请求项1至6中任一项之镜子。 11.如请求项10之方法,其中提供一具有一包括第一 及第二突起之镜射表面的镜子,其中该等第一突起 及第二突起系以此方式加以配置,以使得可针对EUV 辐射创造一不会在该镜射表面上改变的光径长度 差。 12.一种镜子,具有一镜射表面,其特征为:该镜射表 面包括一或多个包括一选自于Be、B、C、P、S、K、 Ca、Sc、Br、Rb、Sr、Y、Zr、Nb、Mo、Ba、La、Ce、Pr、 Pa及U中至少一者之材料的突起,且其中该等突起系 以此方式加以配置,使得一包括EUV辐射的具有0与 90之间的入射角度之投影射束之EUV辐射的一部分 仅通过一个突起。 13.如请求项12之镜子,其中该等突起系以此方式加 以配置,使得一包括EUV辐射的具有60与90之间的入 射角度之投影射束之EUV辐射的一部分仅通过一个 突起。 14.如请求项12或13之镜子,其中具有一长度及一周 期的该等突起系以此方式加以配置,使得该等突起 之该长度<<该等突起之该周期。 15.一种包括如请求项12至14中任一项之镜子的微影 装置。 16.一种元件制造方法,包括: -提供一至少部分地由一辐射敏感材料层所覆盖的 基板; -使用一辐射系统来提供一辐射投影射束; -使用图案化构件在该投影射束之横截面中赋予其 一图案; -将该经图案化辐射射束投影至该辐射敏感材料层 之一目标部分上;及 -提供具有一镜射表面的一或多个镜子, 其特征为:在该投影射束(PB)之路径中提供至少一 如请求项12至14中任一项之镜子。 17.如请求项16之方法,其中该等突起系以此方式加 以配置,以使得一包括EUV辐射的具有0与90之间的 入射角度之投影射束之EUV辐射的一部分仅通过一 个突起。 18.如请求项16之方法,其中该投影射束具有一60与90 之间的入射角度。 图式简单说明: 图1图解描绘了一根据本发明之一实施例的微影投 影装置。 图2图解展示了一根据图1之微影投影装置之EUV照 明系统及投影光学器件之侧视图。 图3图解展示了一在镜射表面上具有呈层状锯齿形 轮廓之形态的突起的镜子。 图4图解展示了一在镜射表面上具有呈层状方波形 轮廓之形态的突起的镜子。 图5图解描绘了与图4中所展示之镜子类似的镜子, 但是其中该等突起系以此方式配置,使得包括EUV辐 射的投影射束之EUV辐射之一部分仅通过一个突起 。 图6图解描绘了与图3中展示之镜子相同的镜子,但 是其中该等突起现经配置以形成针对EUV辐射之绕 射光栅,其具有层状锯齿形轮廓(闪耀光栅)。 图7图解描绘了与图4中展示之镜子相同的镜子,但 是其中该等突起现经配置以形成针对EUV辐射之绕 射光栅,其具有层状方波形轮廓。 图8图解展示了一在镜射表面上具有呈在彼此之上 的两种材料之层状锯齿形轮廓之形态的突起的镜 子。 图9图解展示了一在镜射表面上具有呈靠近彼此的 两种材料之层状方波形轮廓之形态的突起的镜子 。
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