| 主权项 |
1.一种矽晶圆的研磨方法,系于不织布含浸于树脂 之研磨垫使矽晶圆主面滑接,使用含有矽酸胶之研 磨液,进行镜面研磨之矽晶圆研磨方法,其特征为: 作为前述不织布而使用聚酯毡(polyester felt),使该 聚酯毡含浸于聚胺酯,以前述研磨垫的压缩率成为 2%左右之方式,调整前述聚胺酯的含浸量,接着利用 藉由颗粒粗糙度为#100前后的研磨石来擦光(buffing) 前述研磨垫表面,藉此制造前述研磨垫, 将前述研磨垫的表面粗糙度与压缩率的比{表面粗 糙度(m)/压缩率(%)}设为3.8以上10以下,将前述研 磨垫的压缩率设为2%以上4.5%以下,将前述研磨垫的 表面粗糙度设为15m至19m而进行研磨。 2.一种晶圆研磨用研磨垫,系使用于使用含有矽酸 胶之研磨液之镜面研磨,且不织布含浸于树脂之矽 晶圆研磨用研磨垫,其特征为: 作为前述不织布而使用聚酯毡(polyester felt),使该 聚酯毡含浸于聚胺酯,以前述研磨垫的压缩率成为 2%左右之方式,调整前述聚胺酯的含浸量,接着利用 藉由颗粒粗糙度为#100前后的研磨石来擦光(buffing) 前述研磨垫表面,藉此制造前述研磨垫, 将前述研磨垫的表面粗糙度与压缩率的比{表面粗 糙度(m)/压缩率(%)}设为3.8以上10以下,将前述研 磨垫的压缩率设为2%以上4.5%以下,将前述研磨垫的 表面粗糙度设为17m至19m。 图式简单说明: 第1图系显示实验例1的研磨垫之{表面粗糙度(m)/ 压缩率(%)}与平坦度(边缘2mm除外时)的关系。 第2图系显示实验例1的研磨垫之{表面粗糙度(m)/ 压缩率(%)}与平坦度(边缘2mm除外时)的关系。 第3图系显示实验例1的研磨垫之压缩率(%)}与平坦 度(边缘2mm除外时)的关系。 第4图系本发明方法所使用的研磨装置之一例的主 要部分概略剖视说明图。 |
