| 主权项 |
1.一种倾动机构,包含: 用来反射光之反射镜; 具有内部空间之固定构件;以及 反射镜支撑件,以其上表面来支撑该反射镜,且具 有轴,其系由该固定构件可转动般地支撑并藉此对 该轴倾动。 2.如申请专利范围第1项之倾动机构,其中,该反射 镜系于其相对侧之至少一侧上涂敷有反射材料之 板构件。 3.如申请专利范围第1项之倾动机构,其中,该固定 构件具有轴支撑件,其具有压陷表面所形成的轴沟 ,用以放置该轴于其上。 4.如申请专利范围第3项之倾动机构,其中,该轴沟 具有半圆形的剖面,藉之与该轴产生面接触。 5.如申请专利范围第3项之倾动机构,其中,该轴沟 具有V-形剖面,藉之与该轴产生线接触。 6.如申请专利范围第1项之倾动机构,其中,该轴系 一体成型于该反射镜支撑件的左侧及右侧,该反射 镜支撑件系面向该轴支撑件。 7.如申请专利范围第1项之倾动机构,其中,该轴系 组装入形成在该反射镜支撑件之左侧及右侧的柱 孔中,该反射镜支撑件系面向该轴支撑件。 8.一种倾动致动器,包含: 具有内部空间之固定构件; 反射镜支撑件,具有由该固定构件可转动般地支撑 的轴,且具有反射镜于其顶部,用来对该轴倾动;以 及 驱动单元,连接到该反射镜支撑件,用来经由磁场 及电场的交互作用而施加垂直外力到该反射镜支 撑件。 9.如申请专利范围第8项之倾动致动器,其中,该反 射镜系于其上相对侧之至少一侧上涂敷有反射材 料之板构件。 10.如申请专利范围第8项之倾动致动器,其中,该固 定构件包含轴支撑装置,其包括从互相面对的内部 表面突出的一对第一内部阶状物以及分别形成在 该第一对内部阶状物上的轴沟,使该轴可转动地置 于其上。 11.如申请专利范围第10项之倾动致动器,其中,该轴 沟具有半圆形剖面,用来与该轴产生面接触。 12.如申请专利范围第10项之倾动致动器,其中,该轴 沟具有V-形剖面,用来与该轴产生线接触。 13.如申请专利范围第8项之倾动致动器,其中,该轴 系一体成型于该反射镜支撑件的左侧及右侧,该反 射镜支撑件系面向该轴支撑件。 14.如申请专利范围第8项之倾动致动器,其中,该轴 系组装入形成在该反射镜支撑件之左侧及右侧的 柱孔中,该反射镜支撑件系面向该轴支撑件。 15.如申请专利范围第8项之倾动致动器,其中,该反 射镜支撑件系模造金属件。 16.如申请专利范围第8项之倾动致动器,其中,该反 射镜支撑件系模造合成树脂件。 17.如申请专利范围第8项之倾动致动器,其中,该反 射镜支撑件在其上表面上具有复数个反射镜支撑 部用来避免该反射镜的水平移动并用来与该反射 镜保持预定的间隔。 18.如申请专利范围第8项之倾动致动器,复包含用 来预防轴脱轨同时可使该轴转动之装置。 19.如申请专利范围第18项之倾动致动器,其中,该预 防装置包含设置来与该轴产生面接触的固定板,以 及通过形成在该固定板的左侧及右侧上的一对穿 透孔而插入在该固定构件的扣紧孔中的扣紧装置 。 20.如申请专利范围第18项之倾动致动器,其中,该对 穿透孔的任一个是狭长孔。 21.如申请专利范围第8项之倾动致动器,复包含设 置在该反射镜支撑件以及该固定构件之间的至少 一个支撑柱,而该支撑柱具有与面对该轴中心线的 该反射镜支撑件的底部接触的上部以支撑该反射 镜支撑件以及固定在该固定构件的底部上的下部 。 22.如申请专利范围第21项之倾动致动器,其中,该支 撑柱包含圆柱构件,其下部系组装到该固定构件的 柱孔内,以及设置在该圆柱构件顶部的接触球,藉 之与该反射镜支撑件弹性接触。 23.如申请专利范围第22项之倾动致动器,其中,该圆 柱构件系旋入固定于该柱孔。 24.如申请专利范围第22项之倾动致动器,其中,该反 射镜支撑件复包含下突出件,其形成在与该支撑柱 上部接触之该反射镜支撑件的底部,且沿着该轴的 中心线突起。 25.如申请专利范围第24项之倾动致动器,其中,该下 突出件包含接触沟槽,其系与该支撑柱的上部点接 触。 26.如申请专利范围第8项之倾动致动器,复包含用 来调整设置在该反射镜支撑件及该固定构件之间 的该反射镜的水平度之装置。 27.如申请专利范围第26项之倾动致动器,其中,该水 平度调整装置包含:板状弹簧,其中心系固定于该 反射镜支撑件的底部,该板状弹簧并在面向形成在 该固定构件的第二内部阶状物上的扣紧孔的两侧 上具有侧向突出件;以及调整构件,其系经由形成 在该等侧向突出件上的调整孔而与该等扣紧孔结 合。 28.如申请专利范围第27项之倾动致动器,其中,该等 调整构件包含螺旋弹簧,其系弹性地向上支撑该等 侧向突出件。 29.如申请专利范围第8项之倾动致动器,其中,该驱 动单元包含安装在该固定构件底部的至少一个磁 石部,以及连接到该反射镜支撑件的至少一个线圈 部。 30.如申请专利范围第29项之倾动致动器,其中,该磁 石部包含具有开放顶部及封闭底部的轭形物,该底 部系固定于形成在该固定构件底部的座孔上,以及 用来产生磁场而设置在该轭形物的内部空间的磁 石构件。 31.如申请专利范围第30项之倾动致动器,其中,该磁 石构件系安装在从该轭形物的底部突起预定高度 的环状突出物上。 32.如申请专利范围第30项之倾动致动器,其中,该轭 形物包含安装在该磁石构件顶部上的上轭。 33.如申请专利范围第29项之倾动致动器,其中,该线 圈部包含:连接到该反射镜支撑件之具有预定长度 的线圈轴,其系插入该磁石部内;以及以预定次数 缠绕在该线圈轴上的线圈。 34.如申请专利范围第33项之倾动致动器,其中,设置 在该磁石部中心处的该线圈轴之长度系短于该轭 形物的长度,且该磁石部具有较该磁石构件的内部 尺寸为小的外部尺寸。 图式简单说明: 第1图为爆炸透视图,显示根据本发明的倾动机构; 第2图为整体透视图,显示根据本发明的倾动致动 器; 第3图为底部透视图,显示根据本发明之具有以部 份剖面显示的固定构件的倾动致动器; 第4图为顶部透视图,显示根据本发明之具有以部 份剖面显示的固定构件的倾动致动器; 第5图为平面视图,显示根据本发明之为倾动致动 器所用的固定构件; 第6图显示的是根据本发明之为倾动致动器所用的 反射镜支撑件,其中:第6a图是平面视图、第6b图是 前视图、及第6c图是侧视图; 第7图是透视图,显示的是根据本发明之为倾动致 动器所用的支撑柱; 第8图是透视图,显示的是根据本发明之为倾动致 动器所用的板状弹簧; 第9图显示的是根据本发明之为倾动致动器所用的 磁石部:第9a图是轭形物的透视图、第9b图是磁石 构件的透视图、及第9c图是上轭的透视图; 第10图显示的是根据本发明之为倾动致动器所用 的线圈部的透视图; 第11图是外型视图,显示的是藉由倾动致动器而形 成在萤幕上的变动影像;以及 第12图是架构示意图,显示采用数位微反射镜装置( DMD)的大尺寸显示装置。 |
