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发明名称 Lithographic Apparatus and a Method of Compensating for Thermal Deformation in a Lithographic apparatus
摘要
申请公布号 KR100775545(B1) 申请公布日期 2007.11.09
申请号 KR20040070347 申请日期 2004.09.03
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;G02B7/00;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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