FEUTRE DE POLISSAGE ET PROCEDE DE POLISSAGE L'UTILISANT

摘要

L'invention concerne un feutre de polissage utile pour polir au moins un substrat parmi un substrat magnétique, un substrat optique et un substrat semiconducteur en présence d'un agent de polissage, qui comprend un réseau tridimensionnel de cellules unitaires interconnectées (225) réticulées pour permettre l'écoulement du fluide et le retrait des débris de polissage. Une pluralité d'éléments de polissage (208) forme le réseau tridimensionnel de cellules unitaires interconnectées. Les éléments de polissage ont une première extrémité reliée à un premier élément de polissage adjacent au niveau d'une première jonction (209) et une seconde extrémité reliée à un second élément de polissage adjacent au niveau d'une seconde jonction (209) et ont une aire en section transversale (222) qui reste dans des limites de 30 % entre la première et la seconde jonction. La surface de polissage (200) formée à partir de la pluralité d'éléments de polissage reste constante pendant de multiples opérations de polissage. L'invention concerne aussi un procédé de polissage utilisant le feutre de polissage.