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发明名称 Lithographischer Apparat mit einem ausbalancierten Positionierungssystem
摘要
申请公布号 DE60033773(T2) 申请公布日期 2007.11.08
申请号 DE20006033773T 申请日期 2000.12.19
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 KWAN, YIM BUN PATRICK
分类号 G03F7/20;G03F7/22;F16F15/02;G03F9/00;H01L21/027;H01L21/68;H05K3/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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