发明名称 凸点结构及其形成方法和使用该凸点结构的半导体器件
摘要 本发明提供一种凸点结构及其形成方法。该凸点结构具备压接焊球和引线,其中,压接焊球被形成在电极焊盘上,引线被形成在压接焊球上。并且,引线由弧状的引线弧构成,该引线弧从压接焊球的端部伸出。由此,可确保连接焊盘和凸点结构之间的连接可靠性。
申请公布号 CN101068012A 申请公布日期 2007.11.07
申请号 CN200710102380.X 申请日期 2007.04.30
申请人 夏普株式会社 发明人 矢野祐司;玉置和雄
分类号 H01L23/488(2006.01);H01L21/603(2006.01);B23K20/00(2006.01);B23K101/40(2006.01) 主分类号 H01L23/488(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 温大鹏
主权项 1.一种凸点结构,由压接焊球(3a、13a、23a、53a、63a、83a)和引线构成,其中,上述压接焊球(3a、13a、23a、53a、63a、83a)被设置在电极焊盘(2、12、22、52、62)上,上述引线被设置在上述压接焊球(3a、13a、23a、53a、63a、83a)上,该凸点结构的特征在于:上述引线是从上述压接焊球(3a、13a、23a、53a、63a、83a)的端部伸出的被形成为弧状的引线弧。
地址 日本大阪府大阪市