| 发明名称 | 高纯度氧双邻苯二甲酸酐及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种高纯度氧双邻苯二甲酸酐及其制造方法。在制造含有氧双邻苯二甲酸酐的聚酰亚胺时，使用本发明提供的高纯度氧双邻苯二甲酸酐可以制造出具有足够高强度的聚酰亚胺，本发明提供的高纯度氧双邻苯二甲酸酐的制造方法在工业上简单易行。在每克所述高纯度氧双邻苯二甲酸酐中，相当投影面积的圆直径为5μm～20μm的不溶性微粒物的含量为3000个以下，并且，该氧双邻苯二甲酸酐在乙腈中以4g/L的浓度溶解得到的溶液，在光程长为1cm时的400nm光线透过率为98.5％以上。 | ||
| 申请公布号 | CN101068799A | 申请公布日期 | 2007.11.07 |
| 申请号 | CN200580040983.0 | 申请日期 | 2005.12.07 |
| 申请人 | 三菱化学株式会社 | 发明人 | 长山和弘;横山寿治;高原润;新田诚;三上洋 |
| 分类号 | C07D307/89(2006.01);C07B63/00(2006.01);C08G73/14(2006.01) | 主分类号 | C07D307/89(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 丁香兰 |
| 主权项 | 1.一种高纯度氧双邻苯二甲酸酐，在每克该氧双邻苯二甲酸酐中，相当投影面积的圆直径为5μm～20μm的不溶性微粒物的含量为3000个以下，并且，所述氧双邻苯二甲酸酐以4g/L溶解在乙腈中得到的溶液在光程长为1cm时的400nm光线透过率为98.5％以上。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||