首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 PLASMA GATE OXIDATION PROCESS USING PULSED RF SOURCE POWER
摘要
申请公布号 EP1851788(A2) 申请公布日期 2007.11.07
申请号 EP20060719971 申请日期 2006.01.30
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 CHUA, THAI, CHENG
分类号 H01L21/31;H01L21/469 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com