| 发明名称 | 用于电化学机械抛光的抛光垫 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种用于电化学机械抛光导电衬底的抛光垫。该垫包括多个形成在抛光垫的抛光面上的凹槽，该凹槽适于使抛光液在抛光垫上流动。在该凹槽上分别形成导电层，而且各导电层互相电连通。 | ||
| 申请公布号 | CN100347825C | 申请公布日期 | 2007.11.07 |
| 申请号 | CN200410057956.1 | 申请日期 | 2004.08.27 |
| 申请人 | CMP罗姆和哈斯电子材料控股公司 | 发明人 | 李·M.·库克;戴维·B.·詹姆斯;约翰·V.·H·罗伯兹 |
| 分类号 | H01L21/302(2006.01);B24B37/04(2006.01) | 主分类号 | H01L21/302(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 朱黎明 |
| 主权项 | 1.一种用于电化学机械抛光导电衬底的抛光垫，所述抛光垫包括：多个凹槽，形成在抛光垫的抛光面中，该凹槽适于帮助抛光液在抛光垫上流动；导电层，分别形成在该凹槽内表面上，从而形成导电凹槽；所述各导电层彼此电连通。 | ||
| 地址 | 美国特拉华 | ||