| 发明名称 |
THERMAL OXIDATION OF A SIGE LAYER AND APPLICATIONS THEREOF |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1851789(A2) |
申请公布日期 |
2007.11.07 |
| 申请号 |
EP20050708734 |
申请日期 |
2005.02.24 |
| 申请人 |
S.O.I.TEC. SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGIES S.A. |
发明人 |
DAVAL, NICOLAS |
| 分类号 |
H01L21/3105;H01L21/02;H01L21/316;H01L21/762 |
主分类号 |
H01L21/3105 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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