发明名称 Plasma Processing apparatus
摘要
申请公布号 KR100773722(B1) 申请公布日期 2007.11.06
申请号 KR20050082651 申请日期 2005.09.06
申请人 发明人
分类号 H01L21/68 主分类号 H01L21/68
代理机构 代理人
主权项
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