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发明名称
施行晶圆均匀度控制之动态量测取样
摘要
一种处理晶圆之方法,包括:使用针对该晶圆所测量的量测资料,产生一前处理测量舆图,包括:针对于该晶圆上之至少一孤立状结构的量测资料,针对该晶圆上至少一巢套结构的量测资料,或遮罩资料。针对该晶圆,至少计算一前处理预测舆图。针对该晶圆,计算一前处理信赖度舆图。该前处理信赖度舆图,包括针对该晶圆上的该多数晶粒的一组信赖度资料。当针对一个或一个以上晶粒之信赖度资料未落于该信赖度界限内,则决定一优先的测量位置。接着,产生包括该优先的测量位置之一新的测量配方。
申请公布号
TW200741809
申请公布日期
2007.11.01
申请号
TW096109685
申请日期
2007.03.21
申请人
东京威力科创股份有限公司;国际商业机器股份有限公司 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 美国
发明人
梅瑞特 方克;丹尼尔J 普拉杰;瑞德哈 圣德拉真;卫斯理 纳佐
分类号
H01L21/02(2006.01)
主分类号
H01L21/02(2006.01)
代理机构
代理人
周良谋;周良吉
主权项
地址
日本
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