发明名称 基板处理装置及基板处理方法
摘要 基板处理装置(1)具备有:作为二流体喷嘴之吐出部(3),朝向基板(9)吐出洗净液之液滴;洗净液供给部(4),将洗净液导引到吐出部(3);和圆环状之感应电极(6),被配置在吐出部(3)之吐出口(31)之附近。吐出部(3)内之洗净液管和洗净液供给部(4)由玻璃状碳形成,经由连接到洗净液供给部(4)之导电线(82)而接地。感应电极(6)连接到电源(81),藉由使作为导电性之接液部的洗净液供给部(4)及洗净液管与感应电极(6)之间被赋予电位差,可对吐出口(31)之附近之洗净液感应电荷。在基板处理装置(1)中,利用感应出之与洗净后之基板电位相反极性之电荷的洗净液之液滴,洗净基板(9),藉此可以抑制洗净中和洗净后之基板(9)之带电。
申请公布号 TW200741808 申请公布日期 2007.11.01
申请号 TW096108180 申请日期 2007.03.09
申请人 大斯克琳制造股份有限公司 发明人 宫城雅宏
分类号 H01L21/02(2006.01) 主分类号 H01L21/02(2006.01)
代理机构 代理人 赖经臣;宿希成
主权项
地址 日本