投影曝光装置

摘要

[课题]提供一种投影曝光装置，抑制装置的水平及垂直方向的大小而其设置容积不比知的装置的容积大。[解决手段]投影曝光装置20系使用配置于铅直方向的曝光台24，将光罩M的图案藉由照射光投影在膜带状的工件F上而进行曝光，包括：搬运机构25，将工件F于铅直方向朝曝光台移动；以及投影光学机构，具有戴森(Dyson)光学系23，将曝光台邻接于与搬运机构之边界的位置上，其中戴森光学系中，入射该戴森光学系的照射光的光轴以及从该戴森光学系射出的照射光的光轴配置成与曝光台上的工件成正交。