发明名称 乾燥旋转基板之系统及方法
摘要 本发明提供一种乾燥一基板之一表面的方法。该方法包括:支撑并旋转一基板;经由一液体施配器在一旋转中心点处或附近将一液体施用至该基板表面(以使得液体之膜形成于该表面上);经由一或多个乾燥流体施配器在与该旋转中心点相隔一预定距离处将一乾燥流体施用至该基板表面;及,操控该或该等乾燥流体施配器以使得该乾燥流体施用至该基板的位置沿一朝向该旋转中心点之方向移动,且同时操控该液体施配器以使得该液体施用至该基板的位置沿一自该旋转中心点向外之方向移动。上述之该液体施配器及该(等)乾燥流体施配器可位于一总成上及/或该总成内。该总成可包括一第一施配器、一第二施配器及一第三施配器。该第一施配器供应液体,而该第二施配器及该第三施配器供应乾燥流体,其中该第二施配器相比该第三施配器具有一较大开口。该第二施配器与该第三施配器彼此紧接地定位于该总成上且与该第一施配器间隔开。此外,该第二施配器位于该第三施配器与该第一施配器之间,从而使得该第一施配器能够在移动期间线性地导引该第二施配器及该第三施配器。
申请公布号 TW200741834 申请公布日期 2007.11.01
申请号 TW096101976 申请日期 2007.01.18
申请人 安可龙科技有限公司 发明人 伊斯梅尔 嘉斯考;李汉株;志 李维斯 刘
分类号 H01L21/30(2006.01) 主分类号 H01L21/30(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国