半导体基板之清理方法与设备

摘要

本发明提供一种基板清理方法。本方法开始于施加活性溶液至基板表面。使活性溶液及基板表面与固体清理表面之表面接触。活性溶液被吸收至固体清理元件之部分中，接着基板或固体清理表面中之一者相对于彼此作移动，以清理基板表面。本发明亦提供一种基板表面的清理方法，其利用经历塑性形变的固体清理元件来进行。本发明亦提供对应的清理设备。