发明名称 半导体发光装置及其制造方法
摘要 本发明系一种半导体发光装置极其制造方法,其中,半导体发光装置系具有矽基板3,与由化合物半导体而成之主半导体范围4,在于矽基板3上,使主半导体范围4外延成长时,经由主半导体范围4之3族元素,热扩散于矽基板之时,于矽基板3,产生p型矽半导体层9,其p型矽半导体层9则作为过电压保护二极体的构成要素而加以使用,过电压保护二极体系对于依据主半导体范围4之发光二极体而言,并联地连接。
申请公布号 TW200742126 申请公布日期 2007.11.01
申请号 TW096101940 申请日期 2007.01.18
申请人 三肯电气股份有限公司 发明人 神井康宏;丹羽爱玲;佐藤纯治;田未来雄
分类号 H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本