形成受控制的空隙的材料及方法

摘要

本发明是在基材上形成气隙的方法，该方法包括：提供基材；通过沈积至少一种牺牲材料前驱物来沈积牺牲层；沈积复合层；除去复合层中的成孔剂以形成多孔层和使层状基材与除去介质接触以基本上除去牺牲材料并且在基材内提供气隙；其中至少一种牺牲材料前驱物选自有机成孔剂；矽和极性溶剂可溶的金属氧化物和其混合物。