| 主权项 |
1.一种键盘之光源及背光改良结构,其至少包括: 一电路板,具透光性,其于一表侧设有复数弹片; 一键盘,具透光性,系盖合于该电路板具弹片之一 侧,且于键盘上设有复数按键分别对应于电路板上 各弹片; 一导光板,设于该电路板之另一表侧,其表面设有 由复数贯孔密集排列之贯孔组分别对于键盘上各 按键位置及大小,且于各贯孔组之间设置有复数容 置槽; 复数全方向水平光源体,系设置于该容置槽内,其 可向四周水平方向发散光线。 2.如申请专利范围第1项所述之键盘之光源及背光 改良结构,其中该全方向水平光源体系一水平全周 式发光二极体。 3.如申请专利范围第1项所述之键盘之光源及背光 改良结构,其中该全方向水平光源体系一发光二极 体,且于该导光板之各容置槽上方分别设有一遮片 ,可遮覆于该发光二极体上方。 4.如申请专利范围第3项所述之键盘之光源及背光 改良结构,其中该遮片系半透明。 5.如申请专利范围第1项所述之键盘之光源及背光 改良结构,其中该导光板之另一表侧设有一反光片 。 6.如申请专利范围第1项所述之键盘之光源及背光 改良结构,其中该贯孔之宽度系随按键之大小变化 而限制于30mm至0.09mm之间。 7.如申请专利范围第1项所述之键盘之光源及背光 改良结构,其中该贯孔组内可另经由选自于油墨印 刷、雷射雕刻、模具咬花、延压、针刺、沉孔、 盲孔及蚀刻等其中之一加工方式成型为一加工部 位。 8.如申请专利范围第3项所述之键盘之光源及背光 改良结构,其中该遮片系不透明。 图式简单说明: 第一图系习见按键键盘背光结构之分解示意图。 第二图系习见按键键盘背光结构之俯视组合平面 图。 第三图系习见按键键盘背光结构之光线发散侧视 图。 第四图系习见按键键盘背光结构之光线发散俯视 图。 第五图系本创作第一实施例之构造分解图。 第六图系本创作第一实施例之俯视组合平面图。 第七图系本创作第一实施例之光线发散侧视图。 第八图系本创作第一实施例之光线发散俯视图。 第九图系第八图之A-A部位剖面图。 第十图系本创作第二实施例之构造分解图。 第十一图系本创作第二实施例之光源与相关部位 之组合剖面图。 |
