用于流变控制之二缩化合物

摘要

本发明系关于一种具理想化通式之二缩化合物其中R1为(C1-C22)-伸烷基、(C3-C22)-伸烯基、(C5-C15)-伸环烷基、伸芳基、(C7-C12)-伸芳烷基、多氧伸烷基基团或为多酯基团；R2为(C1-C22)-烷基、羟基-(C1-C22)-烷基、(C3-C18)-烯基、芳基、(C7-C12)-芳烷基或(C5-C12)-环烷基基团、羟基-多氧伸烷基、(C1-C22)-烷氧基-多氧伸烷基、(C5-C12)-环-烷氧基-多氧伸烷基、或(C7-C12)-芳烷氧基-多氧伸烷基基团、或始于(C1-C22)-烷醇、(C5-C12)-环烷醇、或(C7-C12)-芳烷基或始于(C1-C22)-烷氧基-多氧伸烷基、(C6-C12)-环-烷氧基-多氧伸烷基、或(C7-C12)-芳烷氧基-多氧伸烷基所制备之多酯基团；Y表示相同或相异之基团O、NH、CO-NH-NH或NH-NH-CO；R3、R4及R5各自分别为(C2-C40)-伸烷基、(C3-C40)-伸烯基、(C5-C40)-伸环烷基、伸芳基、(C7-C40)-伸芳烷基、或多氧伸烷基基团或为多酯基团；R6为(C1-C30)-烷基、(C3-C22)-烯基、羟基烷基及羟基烯基、(C4-C13)-环烷基、芳基或(C7-C12)-芳烷基基团；Z表示下列基团COO、OCO、NHCO、CONH、NHCOO、OOCNH及NHCONH中之一者或多者；以及a为1至19之数目，本发明亦系关于该等二缩化合物之制法及其用于流变控制以及用于触变涂覆系统，用作为抗流淌剂及/或用作为抗沈降剂之用途。