发明名称 |
照明光学装置、投影曝光装置、投影光学系统以及元件制造方法 |
摘要 |
一种投影曝光装置的照明光学装置IU,该投影曝光装置将倍缩光罩R的图案投影及曝光至晶圆W。照明光学装置IU包括次级中继光学系统22及光路合并镜21。次级中继光学系统22用于在光源10及倍缩光罩R之间形成与倍缩光罩R光学共轭的平面62;光路合并镜21用于合并来自曝光光源10的第一光束IL1及第二光束TL2,使得它们在相互接近的情况下照明倍缩光罩表面;其中光路合并镜21包括反射面21a及21b,用于分别反射曝光光束IL1及IL2,反射面21a及21b之间的边界的脊线21c位于平面62上或靠面62。 |
申请公布号 |
TW200741328 |
申请公布日期 |
2007.11.01 |
申请号 |
TW096112420 |
申请日期 |
2007.04.10 |
申请人 |
尼康股份有限公司 |
发明人 |
登道男;白石直正 |
分类号 |
G03B27/52(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03B27/52(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
詹铭文;萧锡清 |
主权项 |
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地址 |
日本 |