感光二极体结构及其制作方法

摘要

本发明系提供一种制作感光二极体的方法，其方法包含有提供一基底，并形成掺杂区于基底中，另外，形成介电层、第一多晶矽层于基底上。并形成一开口以暴露出部分掺杂区的表面，然后，形成第二多晶矽层于第一多晶矽层上方和开口内。并且，图案化第二多晶矽层以形成导线，再图案化第一多晶矽层以形成闸极，最后形成源极/汲极。