测量设备,具此测量设备之曝光设备,及元件制造方法

摘要

一种测量设备包括一第一罩幕其被安排在一目标光学系统的一物件平面(object plane)上且具有一窗口其透射测量光线，一第二罩幕其具有一反射表面用来降低该测量光线的相干性(coherence)，及一绕射光栅其被建构来将已在该第二罩幕上被反射且已通过该第一罩幕与该目标光学系统的测量光线分裂(split)，其中介于该绕射光栅与该目标光学系统的一影像平面之间的一段距离Lg满足Lg=MPg2/λ，其中Pg为该绕射光栅的光栅间距，λ为该测量光线的波长，及m为一除了0以外的整数。