处理装置及方法

摘要

本发明提供一种处理装置，其包括：一处理腔室，其经组态以容纳一工件；一设置于该处理腔室中之第一喷嘴，该第一喷嘴将蒸气排至该工件上；一壁，其围绕该处理腔室；一设置于该壁内之流体通道；一流体入口；及一流体出口。该流体入口经设置以与该流体通道连通。该流体出口经设置以与该流体通道连通，其中一流体流至该流体入口中，通过该流体通道，且流出该流体出口。本发明亦设置一种用于处理一在一处理腔室中移动之工件之处理方法，该处理方法包括：将一蒸气自一第一喷嘴排至该工件，同时使一流体流经一设置于一壁内之流体通道，该壁围绕该处理腔室。