发明名称 |
涂布装置及涂布方法 |
摘要 |
涂布装置系具备有台架(stage)、喷嘴及局部环境气体生成机构。台架系将基板载置于其上面。喷嘴系在台架上之空间中,由其前端部吐出涂布液。局部环境气体生成机构系针对喷嘴吐出涂布液之空间及包含涂布有涂布液之基板之涂布部位的涂布空间进行局部性供应指定气体,在指定环境气体中进行涂布液之涂布。 |
申请公布号 |
TW200740530 |
申请公布日期 |
2007.11.01 |
申请号 |
TW096104999 |
申请日期 |
2007.02.12 |
申请人 |
大斯克琳制造股份有限公司 |
发明人 |
吉田顺一;增市干雄;高村幸宏;上野博之;川越理史;松家毅 |
分类号 |
B05C5/00(2006.01);H05B33/10(2006.01);H01L51/50(2006.01) |
主分类号 |
B05C5/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
赖经臣;宿希成 |
主权项 |
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地址 |
日本 |