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发明名称
压印制程方法
摘要
一种压印制程方法。在此方法中,首先,提供一硬质基板,其中硬质基板系至少包含第一表面以及相对于第一表面之第二表面。接着,提供一缓冲层,其中缓冲层系设置于第二表面上。然后,形成一高分子材料层于第一表面上。之后,执行一压印步骤,以形成一压印图案于高分子材料层上。接着,形成一金属层于第一表面上。之后,移除高分子材料层。
申请公布号
TW200741358
申请公布日期
2007.11.01
申请号
TW095114020
申请日期
2006.04.19
申请人
国立成功大学
发明人
朱圣缘;高柏青;林义访;古哲安;洪昭南;洪敏雄
分类号
G03F7/20(2006.01);G03F7/038(2006.01)
主分类号
G03F7/20(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
台南市东区大学路1号
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