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发明名称
微奈米凹陷区之制造方法
摘要
一种微奈米凹陷区之制造方法,主要系利用微影制程初步制作凹陷区后,再涂布可硬化材料于凹陷区,藉由控制加温位置及工作温度之加温手段,使上述可硬化材料于凹槽之预设位置硬化而缩小凹陷区之空隙,最后去除可硬化材料之未硬化部份而获得微奈米凹陷区者。
申请公布号
TWI289137
申请公布日期
2007.11.01
申请号
TW094122630
申请日期
2005.07.05
申请人
远东科技大学
发明人
丁永强;施锡龙
分类号
B82B3/00(2006.01);G03F7/26(2006.01)
主分类号
B82B3/00(2006.01)
代理机构
代理人
李文祯 台南市中西区府前路2段239号2楼
主权项
1.一种微奈米凹陷区之制造方法,主要系利用微影 制程初步制作凹陷区后,再涂布可硬化材料Su-8于 凹陷区,藉由加温,使上述可硬化材料Su-8于凹槽之 预设位置硬化而缩小凹陷区之空隙,最后去除可硬 化材料Su-8未硬化部份而获得微奈米凹陷区者。 图式简单说明: 第一图系本发明之实施示意图。 第二图系加温之工作温度与孔径之关系图。
地址
台南县新市乡中华路49号
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