微透镜之制造方法

摘要

本发明系关于一种微透镜之制造方法，其方法系在半导体基底上覆设一层平坦层，并于该平坦层上形成色彩滤镜阵列，且于该色彩滤镜阵列上再覆设一层聚合物层，并利用一具预设图案之光罩予以曝光显影，而直接在聚合物层上成型微凸镜，该光罩上每一个图案设置系自中而外设置由大而小之透光区域，利用该透光区域曝光之强弱予以决定微透镜之曲率大小，俾以利于控制每一微透镜之弧曲度者。

主权项

1.一种微透镜之制造方法,其方法为: 在半导体基底上覆设一层平坦层,并于该平坦层上 形成色彩滤镜阵列,且于该色彩滤镜阵列上再覆设 一层聚合物层,其特征在于: 利用一预设图形之光罩予以曝光显影,而直接在聚 合物层上成型微凸镜,该光罩上每一个图案设置系 自中心而外设置由大而小之透光区域,利用该透光 区域曝光之强弱予以决定微透镜之曲率大小,藉由 控制光罩图案型式予以制造出相同弧曲度之微透 镜者。 2.如申请专利范围第1项所述之微透镜之制造方法, 其中,该光罩上图案之透光区域系采同心圆方式由 大渐小设置者。 图式简单说明: 第一图系本发明之制作流程图。 第二图系本发明之方块图。 第三图系本发明所揭光罩之实施例图(一)。 第四图系本发明所揭光罩之实施例图(二)。 第五图系本发明所揭光罩之实施例图(三)。 第六图系习用制法之制作流程图。 第七图系习用制法之方块图。