成象状态调节法、曝光法及设备以及器件制造方法

摘要

当输入投影光学系统(PL)的波前象差的实际测量数据时，主控制器(50)根据该数据和输入之前制作的成象特性泽尔尼克变量表计算投影光学系统的靶成象特性。通过利用泽尔尼克变量表，可以只用一次测量波前象差来计算靶成象特性。而且还提前获得表示可调节的特定光学元件(13₁～13₄)的调节与投影光学系统的成象特性的变化之间关系的参数，并将其提前储存在存储单元(42)中。然后，当输入投影光学系统的成象特性的测量数据时，主控制器利用测量数据、参数和特定光学元件的靶调节量之间的关系表达式计算特定光学元件的靶调节量，并且根据计算结果调节特定光学元件。

主权项

1.一种对通过投影光学系统投影在物体上的图案的像的成象状态进行调节的方法，其中，测量与所述投影光学系统的波前象差有关的信息，根据与所述波前象差有关的信息以及与所述图案的像的投影条件对应的泽尔尼克变量表，使得用于校正所述图案的像的误差的加权函数最佳化，计算出在对所述图案的像的成象状态进行调节的单元的调节信息。