双倒筒靶结合基片双轴旋转的镀膜装置

摘要

本发明提供了一种双倒筒靶结合基片双轴旋转的镀膜装置，由转动驱动轴1、基片导轨2以及基片3构成双轴旋转机构，其特征是它还包括：圆筒形靶材10、圆筒形靶材10位于圆筒形靶材9相对应的另一端，圆筒形热屏蔽层15，由多根加热丝11围成圆筒形加热器12。采用本发明的装置制备大面积双面薄膜，在保证了大面积双面薄膜的均匀性和两面一致性的同时，提高了溅射镀膜的沉积速率，从而提高了大面积双面薄膜的生产效率，而且随着成膜时间的缩短，基片与薄膜间的互扩散问题也得到缓解。

主权项

1、一种双倒筒靶结合基片双轴旋转的镀膜装置，包括：转动驱动轴(1)、基片导轨(2)以及基片(3)，圆筒形靶材(9)，真空腔体(16)，由转动驱动轴(1)、基片导轨(2)以及基片(3)构成双轴旋转机构，其特征是它还包括：另一个圆筒形靶材(10)、另一个圆筒形靶材(10)位于圆筒形靶材(9)相对应的另一端，加热丝(11)、分别连接到加热丝两端的两个电极(13、14)，圆筒形热屏蔽层(15)，由多根加热丝(11)围成圆筒形加热器(12)，圆筒形加热器(12)位于圆筒形热屏蔽层(15)之中，所述的双轴旋转机构位于圆筒形加热器(12)之中。