| 发明名称 | 抗蚀剂成分、形成抗蚀剂图案的方法、基板及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于压印光刻工艺的抗蚀剂成分、采用该抗蚀剂成分形成抗蚀剂图案的方法、采用其制造的阵列基板以及制造该阵列基板的方法。由于在该抗蚀剂成分中包括UV固化树脂、添加剂以及促使与UV固化树脂接触的暴露层的化学接合的附着力促进剂，该抗蚀剂成分可以形成高分辨率的图案并且提高了模具的耐用性。 | ||
| 申请公布号 | CN101063816A | 申请公布日期 | 2007.10.31 |
| 申请号 | CN200710091177.7 | 申请日期 | 2007.04.12 |
| 申请人 | LG.菲利浦LCD株式会社 | 发明人 | 金珍郁;南姸熙 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01);G03F7/00(2006.01);G02F1/1335(2006.01);H01L27/12(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐金国;梁挥 |
| 主权项 | 1、一种抗蚀剂成分，包括：UV固化树脂和添加剂；以及促使UV固化树脂和与该UV固化树脂接触的暴露层支架化学接合的附着力促进剂。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||