| 发明名称 | 光波导器件的制造方法和光波导器件 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种光波导器件的制造方法及光波导器件。光波导器件的制造方法，具有以下工序：在具备下部包层的基片上形成第1树脂膜的第1工序，将所述的第1树脂膜形成光波导形状图案以形成芯层的第2工序，在所述下部包层和所述芯层表面、通过旋转涂布法涂布第2树脂膜的材料溶液并使其干燥以使干燥膜厚从下部包层的上面起为芯层的厚度的3～10倍、从而形成第2树脂膜的第3工序，在所述第3工序的涂布作业中，设有抑制第2树脂膜的材料溶液的溶剂的蒸发速度的手段。 | ||
| 申请公布号 | CN100346185C | 申请公布日期 | 2007.10.31 |
| 申请号 | CN02826117.8 | 申请日期 | 2002.12.26 |
| 申请人 | 日立化成工业株式会社 | 发明人 | 黑田敏裕;近藤圆华 |
| 分类号 | G02B6/13(2006.01) | 主分类号 | G02B6/13(2006.01) |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人 | 熊志诚 |
| 主权项 | 1.一种光波导器件的制造方法，其特征在于，具有以下工序：在具备下部包层的基片上形成第1树脂膜的第1工序，将所述的第1树脂膜形成光波导形状图案以形成芯层的第2工序，在所述下部包层和所述芯层表面、通过旋转涂布法涂布第2树脂膜的材料溶液并使其干燥以使干燥膜厚从下部包层的上面起为芯层的厚度的3～10倍、从而形成第2树脂膜的第3工序，在所述第3工序的涂布作业中，设有抑制第2树脂膜的材料溶液的溶剂的蒸发速度的手段。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||